国家知识产权局信息显示，安徽国芯光刻技术有限公司申请一项名为“光刻机MLA透镜智能反馈对准调节微控系统”的专利，公开号CN121806392A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明涉及光刻机光学调控技术领域，公开了光刻机MLA透镜智能反馈对准调节微控系统。该系统包括光强分布采集模块、透镜状态映射模块、偏移量优化模块、曝光补偿决策模块和动态校准反馈模块。光强分布采集模块实时获取曝光场内光强分布数据，解析其空间特征与时间变化序列生成提取结果；透镜状态映射模块关联透镜单元物理坐标，计算光学参数偏移量生成映射集；偏移量优化模块分析偏移量累积分布与波动范围，生成多维度优化参数集；曝光补偿决策模块动态分配补偿优先级，计算补偿系数与微调向量生成执行指令集；动态校准反馈模块执行指令并监测反馈校准偏差。该系统实现透镜对准精准调节，保障曝光质量。

天眼查资料显示，安徽国芯光刻技术有限公司，成立于2021年，位于合肥市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽国芯光刻技术有限公司专利信息21条，此外企业还拥有行政许可4个。

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